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第419章 工作进度 (1 / 7)
        光子芯片实验室里，沈明轩面前的屏幕已经亮了一夜。

        五轮测试曲线叠在同一个坐标轴上，终点都停在0.8dB/Cm附近，最下面那条线只比上一条低了一个很小的尖，系统自动判定为无有效改善。

        年轻工程师站在旁边，手里的记录板换了三张纸，刻蚀角度，时间窗口，温度曲线，清洗间隔，每一项参数后面都有手写备注。

        “沈老师，梯度刻蚀的优化空间是不是到极限了？”

        沈明轩没有马上回答，他把五轮工艺参数并排拉开，鼠标从第一列滑到最后一列，屏幕光落在他眼镜片上。

        每一项都动过，每一次都把结果带回0.8附近。

        工程师把记录板放低了一点，手指在边角压出一道折痕。

        沈明轩把第五轮数据放大，看了一遍波导侧壁粗糙度测量值，又切回损耗曲线。

        “不是到极限。”

        他把鼠标停在0.8那个点上。

        “是我们还没找到关键。”

        工程师点头，没再说话。

        沈明轩站起来，椅子往后退了一小段，实验室玻璃门上映出他眼下的青色。

        “刻蚀组把第四轮和第五轮的边界条件拆开，测试组重跑重复性。”

        杭州那家封装设备企业门口，林知行站了五分钟才推门进去。

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