第412章 光损耗破0.8 (1 / 8) 首页

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第412章 光损耗破0.8 (1 / 8)
        光子芯片研发中心的测试台前,第四轮波导样片的数据正在一点一点往外跳。

        屏幕左侧叠着三条旧曲线,第一条0.95dB/Cm,第二条0.88dB/Cm,第三条0.82dB/Cm,三条线的终点都被沈明轩用红笔在打印稿上圈过。

        实验室里只有设备运行的低响。

        两个工程师站在他身后,一个手里拿着记录板,一个盯着实时数据窗口。

        沈明轩手里捏着一支红笔,笔帽被他扣在尾端,笔尖悬在打印稿上方。

        这一轮从上午开始跑,样片编号是G-4-17,工艺记录里多了一行备注,梯度刻蚀窗口二次修正。

        年轻工程师看了一眼前三轮数据,小声说:“沈老师,前三轮趋势是往下的,0.95,0.88,0.82。”

        沈明轩没有抬头。

        屏幕上的第四条曲线开始成型,前半段比第三条更低一点,中段有一小段抬头,又慢慢下去。

        沈明轩把鼠标移到曲线尾端,等最后一个数据点刷新出来。

        第四轮数据全部跑完。

        屏幕上四条曲线完整叠在一起,从上到下分得清楚,每一条都比前一条低。

        沈明轩拿起红笔,在打印稿第一条曲线旁画了一个箭头。

        1.1→0.95,刻蚀角度容差过大,高温测试时额外散射损耗明显。

        第二个箭头。

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